导读 ASML 首席执行官 Peter Wennink 近日在接受路透社采访时表示，尽管供应商出现了一些阻碍，但公司仍会按照此前设定的计划
9月6日消息，ASML首席执行官Peter Wennink近日在接受路透社采访时表示，尽管供应商存在一些阻碍，但该公司仍将按照之前设定的计划在今年年底前交付High NA。 EUV 机器。
ASML表示，一台高NA EUV光刻机（High-NA EUV）设备大约有一辆卡车大小，每台设备价格超过3亿美元（IT之家注：目前约为21.9亿元人民币），这可以满足一线的需求 芯片制造商的需求将使他们能够在未来十年内制造出更小、更好的芯片。
Wennink表示，一些供应商无法提高零部件的数量和质量，导致了轻微的延误，但总体来说这些困难是可以控制的，并承诺在今年年底前交付第一台机器。
此前报道，针对后 3nm 时代，ASML 与合作伙伴正在开发一款全新的 EUV 光刻机——Twinscan EXE: 5000 系列，该机将配备 0.55 NA（高 NA）镜头，分辨率高达 8nm，从而避免3 nm及以上节点尽可能进行两次或多次曝光。